Au niveau du sol, on sait immédiatement lorsque la puissance et le spectre des rayons UV ne sont pas adaptés. L’encre reste collante, son pouvoir d’adhérence diminue. De plus, les supports sensibles à la chaleur commencent à se déformer en raison d’une irradiation excessive.
Adapter un système de polymérisation par UV au gallium iodure à votre presse et à votre encre n’est pas une question de suppositions. Il s’agit plutôt d’une ingénierie spectrale appliquée dans des conditions réelles.
En fait, tout repose sur la longueur d’onde et la densité énergétique. Les lampes au gallium iodure émettent la majeure partie de leur énergie dans la plage de 385–405 nm, avec un pic important autour de 417 nm. Ce profil est adapté aux photoinitiateurs présents dans les encres pigmentées et pour les couches épaisses.
Cela permet une pénétration plus profonde des photons, ce qui favorise une polymérisation complète de toute la couche d’encre, plutôt que seulement de sa surface. En combinant cette lampe avec un système de réflecteurs conçu pour une irradiation maximale, on obtient une gelification instantanée, suivie d’une polymérisation complète en une seule passe.
Le résultat est une adhérence solide, des émissions de COV faibles, et un processus capable de fonctionner efficacement sur des machines à impression offset, flexographiques ou à sérigraphie à haute vitesse.
Voici comment nous faisons pour l’adapter : nous ajustons la puissance de la lampe (en W/cm²) ainsi que son spectre d’émission en fonction de la vitesse de la presse, de la distance de polymérisation et de l’épaisseur de la couche d’encre.
Un système de 300 W/cm² peut suffire pour des couches fines en flexographie, avec une vitesse de production d’environ 150 m/min. Pour des couches plus épaisses ou des pigments concentrés, il est nécessaire d’utiliser un système de 600 W/cm².
De plus, la chimie du gallium iodure fonctionne à une température plus basse que celle du mercure vapeur, ce qui réduit le chauffage des supports. C’est pourquoi ce système fonctionne bien avec des films fins et des supports sensibles à la chaleur.
Maintenant, voici les détails importants : il faut vérifier attentivement la géométrie du réflecteur et son revêtement dichroïque. La pureté spectrale et l’efficacité de réflexion déterminent directement la dose d’énergie fournie.
L’écart entre la lampe et le support doit être minimal. Gardez cet écart entre ±2 mm si vous souhaitez obtenir des valeurs reproductibles en mJ/cm².
Une exploitation sans ozone est la norme, mais il est toujours nécessaire d’avoir un système d’évacuation adéquat et un flux d’air propre. Cela permet de préserver la clarté du quartz et des réflecteurs, et donc de garantir un fonctionnement stable du système.