Sulle linee di produzione per tessuti sensibili al calore, le vecchie lampade al mercurio costringono sempre a fare una scelta: o si procede con la polimerizzazione dell’inchiostro, oppure si cerca di evitare che il substrato si deformi. Abbiamo creato una lampada a radiazioni UV industriale, in modo che non sia più necessario prendere questa decisione.
Cosa è importante sotto il profilo tecnico Utilizziamo un sistema a sorgente fredda, con controllo spettrale incentrato su una lunghezza d’onda di 395 nm. Questo permette di raggiungere un’intensità di irradiazione di 12 W/cm² proprio sul piano del substrato. Un riflettore rivestito di materiale dicromico regola l’emissione di luce infrarossa, riducendola al di sotto del 15% della potenza totale emessa. In questo modo, la temperatura della superficie rimane sotto i 45 °C, pur mantenendo un livello di energia sufficiente per garantire una polimerizzazione completa, pari a 800–1200 mJ/cm². La lampada funziona a 240 V e garantisce un flusso di luce costante. La velocità di trasporto del materiale può variare da 200 a 800 mm/min, con possibilità di regolazione. Il quarzo privo di ozono e i sistemi di ventilazione dedicati mantengono l’area di lavoro entro limiti sicuri.
Ecco perché questo sistema funziona bene nella pratica: i tessuti in poliestere, gli strati misti con spandex e i substrati rivestiti si deformano quando vengono esposti a troppa luce infrarossa. Grazie a questo sistema a sorgente fredda, il tessuto mantiene le proprie dimensioni stabili, mentre l’iniziatore fotolitico presente negli inchiostri UV completano il processo di polimerizzazione. Si può ottenere una polimerizzazione uniforme anche a una velocità di 600 mm/min, senza rischio di danni ai tessuti, anche quelli sottili. Il consumo energetico è di circa 1,8 kW per lampada; la durata della lampada è di oltre 5.000 ore, con una diminuzione della potenza emessa inferiore al 5%. Questo significa meno ricambi e meno tempi di inattività.
Alcune note per chi utilizza questa lampada Per l’installazione è necessario un sistema di ventilazione dedicato e una distanza minima di 100 mm tra la lampada e il substrato, per mantenere l’uniformità spettrale. La lunghezza d’onda di 395 nm favorisce la polimerizzazione sulla superficie del substrato; se si utilizzano inchiostri che richiedono una polimerizzazione più profonda, è necessario abbinare la lampada a una lampada a breve arco da 365 nm, oppure utilizzare una configurazione a due zone. È importante abbinare la larghezza del nastro trasportatore alla dimensione del sistema di stampa. Inoltre, bisogna tenere conto della riflettività del substrato: i tessuti scuri assorbono più energia e potrebbero richiedere una velocità di trasporto leggermente inferiore.
Abbiamo creato questa lampada pensando alle esigenze specifiche della stampa tessile: bassa emissione di calore, alta potenza di illuminazione e risultati affidabili, shift dopo shift.